熱門搜索：
P760/01_2760nm單模垂直腔面發(fā)射激光器
VCSEL-20-M激光控制驅(qū)動(dòng)器
ZNSP25.4-1IR拋光硫化鋅(ZnS)多光譜(透明)窗片 0.37-13.5um 25.4X1.0mm（晶體/棱鏡
Frequad-W-CW DUV 單頻連續(xù)激光器 213nm 10mW Frequad-W
HB-C0BFAS0832x4 QPSK C波段相干混頻器（信號(hào)解調(diào)/鎖相放大器等）
CO2激光光譜分析儀
ER40-6/125截止波長(zhǎng)1300nm 高摻雜EDF摻鉺光纖
THL-ZnTe20-500RZNTE（碲化鋅）太赫茲晶體
GD5210Y-2-2-TO46905nm 硅雪崩光電二極管 400-1100nm
SNA-4-FC-UPC日本精工法蘭FC/UPC（連接器/光纖束/光纜）
IRV2000-1X350-2000nm 1倍紅外觀察鏡
1030nm超短脈沖種子激光器PS-PSL-1030
NANOFIBER-400-9-SA干涉型單模微納光纖傳感器 1270-2000nm
高能激光光譜光束組合的光柵 （色散勻化片）
FLEX-BF裸光纖研磨機(jī)
S+C+L波段 160nm可調(diào)諧帶通濾波器
當(dāng)前位置：首頁(yè)
產(chǎn)品中心光學(xué)無(wú)源器件光柵微透鏡陣列色散勻化片
product
產(chǎn)品分類
高功率應(yīng)用UV-VIS熔融石英脈沖壓縮光柵 760nm (1812線/mm)（光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片） 產(chǎn)品總覽 隨著飛秒激光系統(tǒng)的能量水平不斷提高,對(duì)脈沖壓縮光柵能量/功率處理能力的需求也隨之增加。我們制造100%的熔融硅脈沖壓縮光柵,利用了優(yōu)良的干涉圖案化技術(shù)和優(yōu)良的反應(yīng)離子蝕刻技術(shù)。提供優(yōu)秀的能量/功率處理能力,并結(jié)合高效率,低波前失真性能。
更新時(shí)間：2025-02-10
產(chǎn)品型號(hào)：PCG-1812-760-971
瀏覽量：1145
線性硅納米印章(納米圖案硅片) (尺寸 8.0 x 8.3 mm)（ 光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片） 產(chǎn)品總覽 LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業(yè)和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)提供了一個(gè)低成本的納米光子學(xué)研究入口。基底可用于光學(xué)、光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學(xué)等領(lǐng)域。
更新時(shí)間：2025-02-20產(chǎn)品型號(hào)：S2D-24B3-0808-150-P瀏覽量：1107
線性硅納米印章(納米圖案硅片)（ 光柵/微透鏡陣列/光色散/勻化片） 產(chǎn)品總覽 LightSmyth提供了大量的納米加工單晶硅襯底，為工業(yè)和學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)提供了一個(gè)低成本的納米光子學(xué)研究入口。基底可用于光學(xué)、光子學(xué)、生物學(xué)、化學(xué)、物理學(xué)（如中子散射）、聚合物研究、納米印跡、微流體學(xué)等領(lǐng)域。
更新時(shí)間：2025-02-20產(chǎn)品型號(hào)：SNS-C20-0808-350-D60-P瀏覽量：1317
1550nm 均勻光柵相位掩模 光柵微透鏡 Ibsen丹麥 產(chǎn)品總覽 相位掩膜光柵是通過(guò)光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構(gòu)造而形成。
更新時(shí)間：2024-12-07產(chǎn)品型號(hào)：瀏覽量：1253
1538nm 均勻光柵相位掩模（色散勻化片） 產(chǎn)品總覽 相位掩膜光柵是通過(guò)光柵中晶格形狀和晶體表面傾斜斜角在定位晶格上刻蝕出自身相位特征的特殊構(gòu)造而形成。
更新時(shí)間：2024-12-07產(chǎn)品型號(hào)：MASK-1538-1062-10X10瀏覽量：1094